電子光學(xué)用超純水設(shè)備是什么原理
電子光學(xué)一般指電子試劑、半導(dǎo)體、集成電路芯片加工、硅片清洗、光學(xué)透鏡、微電子工業(yè)、液晶顯示屏等加工。產(chǎn)品設(shè)備加工過(guò)程中需要大量的工業(yè)純化水,如果工業(yè)純化水達(dá)不到標(biāo)準(zhǔn),不僅會(huì)直接影響產(chǎn)品的使用,還會(huì)影響產(chǎn)品的壽命。現(xiàn)在讓我們了解一下電子光學(xué)用超純水設(shè)備?
不同電子行業(yè)對(duì)純水電阻率的要求不同,國(guó)內(nèi)電子行業(yè)使用的純水分為四個(gè)等級(jí):0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM.和18MΩ/CM。
對(duì)于一些用于半導(dǎo)體、集成電路芯片、液晶屏清洗、電子試劑等的純水,如果要求純水的水質(zhì)電阻率約為18.2兆歐,則超純水設(shè)備需要結(jié)合兩級(jí)反滲透純化水處理技術(shù)+EDI模塊系統(tǒng)。
該設(shè)備可根據(jù)工廠每小時(shí)使用的純水量、現(xiàn)場(chǎng)安裝和工藝設(shè)計(jì)進(jìn)行定制。在施工方提供的相關(guān)技術(shù)資料和技術(shù)要求中,無(wú)需添加任何藥劑連續(xù)生產(chǎn)超純水,設(shè)備自動(dòng)化程度高,操作方便,產(chǎn)水量穩(wěn)定。
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