半導體行業的生產加工過程與水的使用密不可分，這就要求水質到達一定的生產使用指標，其中不可含有任何的離子雜質。這就需要電子半導體超純水設備將水中的導電介質去除，再將水中的膠體物質、氣體和有機物去除。我們使用電導率和電阻率來表示超純水的純度。

目前，我國電子工業部把電子級水質標準分為五個標準（18MΩ·CM、15MΩ·CM、10MΩ·CM、2MΩ·CM、0.5MΩ·CM）以區分不同的水質。

1、≥15MΩ·CM電子半導體超純水設備工藝流程:

預處理系統→反滲透系統→中間水箱→中間水泵→EDI處理裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→超純水

2、≥17MΩ·CM電子半導體超純水設備工藝流程:

預處理系統→一級反滲透系統→PH調節→中間水箱→第二級反滲透系統→純水箱→純水泵→EDI處理裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→超純水

3、≥18MΩ·CM電子半導體超純水設備工藝流程:

預處理系統→反滲透系統→中間水箱→中間水泵→EDI處理裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→超純水

隨著科技研發手段的提高，新的工藝代替傳統工藝，您可以根據您所需的水質要求選擇適合您的工藝流程。

電子半導體超純水設備應用領域：

1、半導體和晶元材料的生產、加工、清洗等步驟。

2、高品質顯像管、熒光粉的生產。

3、超純材料和超純化學試劑的純水使用。

4、生產液晶顯示器屏幕時所需要的純水清理和純水配液。

5、半導體行業對材料、器材、集成電器和印刷電路板上的應用。

君浩環保集團專注水處理13年，8500㎡廠房，4000+客戶共同見證，電子半導體超純水設備出水一次性達標！服務熱線：400-653-6686。